99,99% alvo de pulverização rotativa de tântalo de alta pureza

Descrição dos produtos

Nome do Produto Pureza Densidade Condição da superfície Tratamento térmico
Target Ta Planar 3N5 16,65 g/cm3 Solo Recozimento
Ta Alvo Rotativo 3N5 16,65 g/cm3 Solo Recozimento
Parâmetros Valor Típico
Composição Ta
Pureza ≥99.99%
Ponto de ebulição 5731k (5458 °C)
Ponto de fusão 3290k (3017 °C)
Tamanho personalizado
Resistividade eléctrica < 2×10-4 Ω· cm


Dimensão (mm)
OD máxima Comprimento Máximo Comprimento máximo de segmento único Rácio de ligação
145-150 3000 250 ≥95%
LISTA TARGET iluminada pelo sol
Aplicações Alvo
Vidro de poupança de energia Ag,SiLa,NiCr,AZO,JZO,TZO,TiOx,ZrOx.....
Vidro Inteligente JZO,ITO,W,Mo,Cr,Si......
Filme Fino PV AZO,i-ZnO,Mo,ClG......
Painel de Toque Si,ITO,Mo,Cu,Ti,Al,Ag......
Mostrar Si,ITO,IZO,IGZO,Mo,Ag,W,Al,Cu,Ti.....

Aplicação do produto
  Aplicação
1.Metallizing, Electron-beam Pulverização, sinteting recozimento na redução da atmosfera na eletrônica.
2. Indústrias militares e leves
3. Evaporar comprimentos pequenos do fio ou evaporar materiais.& nbsp;
3.Tantalum barco é ideal para uso em pequenos sistemas de evaporação.
4.Tantalum barcos fontes são usados para a evaporação a vácuo de materiais.


Aplicação
O tântalo é amplamente utilizado na indústria aeroespacial e aeroespacial, tecnologia de alta temperatura, indústria de energia atômica e indústria química graças ao seu alto ponto de fusão, resistência à corrosão e bom desempenho de trabalho a frio.

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